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離線分光干涉測厚儀的原理及運用
模型 | 飛行時間 |
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測量方法 | 非接觸式/光譜干涉測量法 |
測量對象 | 電子和光學用透明平滑膜、多層膜 |
測量原理 | 光譜干涉儀 |
實現(xiàn)高測量重復(fù)性(± 0.01 μm 或更小,取決于對象和測量條件)
不易受溫度變化的影響
可以生產(chǎn)用于研究和檢查的離線式和在制造過程中使用的在線式。
反射型允許從薄膜的一側(cè)進行測量
僅可測量透明涂膜層(取決于測量條件)
測量厚度 | 1~50μm(薄材料)、10~150μm(厚材料) |
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測量長度 | 50-5000 毫米 |
測量間距 | 1 毫米 ~ |
最小顯示值 | 0.001微米 |
電源電壓 | AC100 V 50/60 Hz |
工作溫度限制 | 5~45℃(測量時溫度變化1℃以內(nèi)) |
濕度 | 35-80%(無冷凝) |
測量區(qū)域 | φ0.6 毫米 |
測量間隙 | 約 30 毫米 |
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