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什么是真空濺射設(shè)備?

發(fā)布時間:2022-12-12 點(diǎn)擊量:1289

什么是真空濺射設(shè)備?

濺射機(jī)通常是一個小型密封室,其中高能粒子(如電子)轟擊源材料,將原子從表面噴出。然后,這些原子在腔室壁反彈,覆蓋腔室內(nèi)的靶材??赏ㄟ^掃描電子顯微鏡(SEM)觀察納米尺度的特征,這主要是依靠樣品的導(dǎo)電性,因此往往會先在樣品上涂上一層薄薄的鉑以供觀察。濺射機(jī)技術(shù)的其他用途包括在半導(dǎo)體工業(yè)、平面顯示、存儲、太陽能電池等領(lǐng)域進(jìn)行薄膜沉積工作,以及在材料表面層進(jìn)行蝕刻以確定其化學(xué)成分。

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MSP-1S設(shè)備專用于SEM觀察貴金屬薄膜鍍層。該設(shè)備進(jìn)行貴金屬涂層以防止SEM樣品充電并提高二次電子產(chǎn)生效率。除了磁控管靶電極的低壓放電外,樣品臺是浮動的,以減少電子束流入對樣品造成的損壞。操作簡單,只需按下按鈕,沒有技巧。它很小,不占用太多空間。在桌子的角落活躍。

用法
SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。

雖然濺射機(jī)制備樣品的機(jī)器可能非常復(fù)雜和昂貴,但濺射設(shè)備不必如此。這些機(jī)器可以是相對簡單的設(shè)備,只需要根據(jù)既定的物理原理運(yùn)行,并且通常缺少活動部件或需要復(fù)雜的維護(hù)。它們的尺寸范圍小到可以直接擺放在桌面,大到需要擺放在地面。

物理氣相沉積是濺射機(jī)設(shè)計中常用的一種方法。沉積材料在低壓下(通常是部分真空)在濺射室中轉(zhuǎn)化為蒸汽。蒸汽冷凝到腔室中的襯底材料上,形成薄膜。這種薄膜只能有幾層原子或分子厚度,并且厚度與濺射過程的持續(xù)時間成正比。薄膜厚度的其他因素包括所涉及的每種材料的質(zhì)量和涂層粒子的能級,涂層粒子可以從幾十電子伏充電到數(shù)千電子伏。


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