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STIL 模塊化光學(xué)筆“DUO”原理分析

發(fā)布時間:2023-04-03 點擊量:970

STIL 模塊化光學(xué)筆“DUO"原理分析

實現(xiàn)更精確的表面形狀測量。 更寬的測量范圍 除了先前型號中使用的
測量方法(“共聚焦色度模式")外,還安裝了新的“干涉測量模式"。 現(xiàn)在可以支持更精確的表面輪廓測量。 兩種模式都可以根據(jù)所需的測量精度使用,從而擴大了應(yīng)用范圍。

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控制器可用于共聚焦色度模式和干涉測量模式。 與以前的型號一樣,系統(tǒng)配置易于使用且簡單,只需根據(jù)所需的測量精度更換筆式模塊即可。

測量原理(干涉測量模式)

干涉測量模式測量原理

光源發(fā)出的光會反射在測量對象、參考板和參考平面上。 此時,兩個反射光之間存在光程差。 如圖所示,如果將參考板插入待測物體的前面并盡可能靠近,使光程差進入干涉距離,則兩個反射光之間會發(fā)生干涉。 由于這種干涉的光譜強度是由波長調(diào)制的,因此可以通過軸向顏色校正光學(xué)筆進行測量和分析,以實現(xiàn)更精確的厚度測量。


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