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真空蒸鍍裝置VE-2013的特點

發(fā)布時間:2024-04-12 點擊量:884

真空蒸鍍裝置VE-2013的特點

VE-2013是一款簡單的真空蒸鍍裝置,繼承了VE-2030(我公司制造)的概念。外殼內置TMP,實現(xiàn)緊湊外殼。由于是臺式機,所以不會占用太多空間。RP 放置在地板上。
我們使用緊湊的 TMP+RP 排氣系統(tǒng)以低廉的價格提供清潔、高真空的蒸發(fā)系統(tǒng)。它消除了復雜的排氣操作,只需觸摸面板開關的ON/OFF控制即可實現(xiàn)全自動。
使用鎢籃可以沉積金、鋁、鉻、銀等。碳蒸鍍采用夾具蒸鍍槍型,使用特殊碳( 
SLC-30 )進行蒸鍍。(不能使用φ5mm碳棒。)

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購買時,您可以選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極??梢赃x擇購買額外的電極。

碳蒸發(fā)電極

這是專用的碳蒸發(fā)電極。
它可以在高真空區(qū)域進行碳蒸發(fā),從而可以形成具有優(yōu)異膜質量和膜強度的碳膜。
附帶的防塵蓋將碳蒸氣沉積的散射范圍降至必要的低限度,從而減輕了清潔的負擔。
使用特種碳(SLC-30)作為積碳源。
金屬蒸鍍電極

這是直徑0.5mm鎢籃專用的金屬蒸鍍電極。
可以輕松簡便地進行金、鋁、鉻等的氣相沉積。隨附的防塵蓋可最大限度地減少沉積區(qū)域并減輕清潔負擔。

主要產品規(guī)格

物品規(guī)格
電源AC100V(單相100V15A)
設備尺寸寬428mm,深430mm,高550mm
(設備重量38kg)
旋轉泵(外部)抽速50?/min (G-50DA)
(重量11kg)
渦輪泵(內置裝置)排氣速度67?/秒
樣品臺直徑72毫米
氣相沉積源-樣品臺距離可調范圍:0mm 至 140mm



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