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hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)(靜電噴墨)

發(fā)布時(shí)間:2024-04-25 點(diǎn)擊量:254

hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)(靜電噴墨)

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  • 高粘性材料的圖案化成為可能!

     我們的靜電點(diǎn)膠技術(shù)可實(shí)現(xiàn) pL 至 fL 級(jí)的微點(diǎn)膠,而這在傳統(tǒng)方法(噴墨等)中是很難實(shí)現(xiàn)的。它還可以應(yīng)用于樹脂和甘油等高粘度樣品,這些樣品迄今為止無法制成細(xì)小液滴。此外,它不僅可以應(yīng)用于導(dǎo)電材料,還可以應(yīng)用于玻璃等絕緣基板。

     通過結(jié)合靜電點(diǎn)膠技術(shù)和 XY 移動(dòng)平臺(tái),可以對各種微滴進(jìn)行圖案化。配備“橫向靜電點(diǎn)膠/圖案化裝置",可以在觀察從噴嘴前端到工件的靜電吸力的同時(shí)確定液滴形成條件,以及落射照明顯微鏡,我們可以滿足客戶的需求。各種各樣的變化,包括“外延觀察圖案形成裝置",該裝置將液滴直接滴到可見區(qū)域上,同時(shí)從基板上方實(shí)時(shí)觀察它們。僅對于側(cè)式靜電點(diǎn)膠/圖案設(shè)備,可以選配可控制滴注環(huán)境溫度和濕度的外部腔室。

  • 應(yīng)用示例:

    ● 可印刷電子產(chǎn)品(包括3D)、線路修復(fù)、化學(xué)傳感器制造、小零件的樹脂密封

    ● 提供局部電氣絕緣、3D 器件原型制作、功能圖案原型制作、局部化學(xué)鍍

    ● 抗蝕劑材料的局部涂敷、生物芯片的制造、發(fā)光面及發(fā)電面的輔助布線、透鏡的遮光部的形成。

    ● 接收天線的制造、將試劑局部應(yīng)用于生物組織、納米線的制造、點(diǎn)圖案的形成等。

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