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日本napsonμ非接觸式光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)

日本napsonμ非接觸式光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào): FilmTek 1000

所屬分類:

產(chǎn)品時(shí)間:2024-09-07

簡要描述:日本napsonμ非接觸式光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)FilmTek 1000
該公司的產(chǎn)品可以執(zhí)行非接觸,非破壞性和高精度的折射率測量,半導(dǎo)體,光電,數(shù)據(jù)存儲(chǔ),平板,MEMS,光致抗蝕劑,TSV(硅直通電極)和其他成膜過程。它已交付給大型公司,并在范圍內(nèi)享有很高的聲譽(yù)。

詳細(xì)說明:

日本napsonμ非接觸式光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)FilmTek 1000

?SCI(科學(xué)計(jì)算)光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)? 

憑借廣泛的測量波長,專有算法和分析軟件,我們具有其他公司所沒有的各種優(yōu)勢。

通過組合靈活的系統(tǒng),我們可以準(zhǔn)確地響應(yīng)您的需求。

[關(guān)于SCI(科學(xué)計(jì)算)]

SCI(科學(xué)計(jì)算)于1993年在加利福尼亞州成立,是一家薄膜分析和設(shè)計(jì)軟件公司。

在1996 年開發(fā)的分析和設(shè)計(jì)軟件FilmWizasrd TM被*為各個(gè)領(lǐng)域的優(yōu)xiu軟件包之后,我們開發(fā)了光學(xué)膜厚測量儀FilmTeK TM系列。

該公司的產(chǎn)品可以執(zhí)行非接觸,非破壞性和高精度的折射率測量,半導(dǎo)體,光電,數(shù)據(jù)存儲(chǔ),平板,MEMS,光致抗蝕劑,TSV(硅直通電極)和其他成膜過程。它已交付給大型公司,并在范圍內(nèi)享有很高的聲譽(yù)。

[產(chǎn)品陣容]

<1> FilmTek 1000系列:簡單的干涉儀系統(tǒng)

? FilmTek 1000UV(UV?面光源)

 ? FilmTek 1000M(小斑點(diǎn))


 

<2> FilmTek 2000系列:干涉儀測繪標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng),也可以進(jìn)行多層膜分析。

? FilmTek 2000M(小斑點(diǎn))

 ? FilmTek 2000M TSV(TSV測量)

  FilmTek 2000SE(橢圓儀)

 ? FilmTek 2000PAR


 

<3> FilmTek 3000系列:使用分光鏡在DUV到NIR范圍內(nèi),測量透明和半透明基板上薄膜的反射率和透射率圖

? FilmTek 3000M

 ? FilmTek 3000 +近紅外

? FilmTek 3000SE

 ? FilmTek 3000PAR


 

<4> FilmTek 4000系列:通過功率譜密度(PSD)進(jìn)行多角度反射率測量和高精度測量

? FilmTek 4000VIS +紅外

 ? FilmTek 4000SE


 

<5> FilmTek SE:光譜橢圓儀


 

[FilmTek產(chǎn)品概述]

FilmTek系列是一種光學(xué)非接觸式膜厚測量設(shè)備,可進(jìn)行無損且高精度的折射率測量。

為了進(jìn)行分析,可以使用SCI*的高性能軟件:Film Wizard。

可以在不固定折射率和吸收(衰減)系數(shù)的情況下與膜厚度同時(shí)計(jì)算折射率和吸收系數(shù)。

在測量的同時(shí)輸出光學(xué)膜厚度,然后使用洛倫茲-洛倫茲公式由反射率和透射率確定介電常數(shù)。

確定介電常數(shù)后,將使用SCI的原始色散公式作為物理屬性值自動(dòng)計(jì)算材料的波長依賴性,并自動(dòng)擬合n(折射率)和k(吸收系數(shù))。 ..

另外,由于將折射率的分辨率計(jì)算為10-4以上,因此,不僅是由該固定折射率得到的來自上表面的信息,而且還包括界面層,表面的變化和內(nèi)傾斜層。可以捕捉到影響。

[測量例]

<測量目標(biāo)>

  • ?半導(dǎo)體和介電材料
  • ?電腦磁盤
  • ?鍍膜玻璃材料
  • ?多層光學(xué)涂料
  • ?激光鏡
  • ? AR涂層材料
  • ?電介質(zhì)薄膜
  • ?光學(xué)設(shè)備
  • ? PET膜
  • ?現(xiàn)場監(jiān)控過程制造設(shè)備
  • ?記錄媒體(DVD等)
  • ?有機(jī)膜
  • ?高分子材料
  • ?彩色膠卷
  • ?低K,高K材料
 

 日本napsonμ非接觸式光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)FilmTek 1000

<測量膜的
例子> SiOx a-Si SiNx aC:H DLC
ITO SOG硅膜多晶硅膜

光刻膠金屬薄膜(半透明)

聚酰亞胺Al2O5 IGZO OLED等

<測量基準(zhǔn)示例>
硅GaAs
SOI玻璃
SOS鋁等

?

產(chǎn)品名稱:膜厚測量系統(tǒng)(非接觸式,光學(xué)型)

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • ?測量波長范圍從DUV(190nm)到NIR(1700nm)
  • ?大范圍的膜厚和光學(xué)常數(shù)(折射率,吸收系數(shù))的測量
  • ?通過軟件可以進(jìn)行未知的薄膜分析
  • ?可以深度方向的薄膜特性。
  • ?支持支持多角度(廣角)反射率,透射率,橢圓光譜和干涉儀的系統(tǒng)
  • ?多可測量5層的折射率,吸收系數(shù)和膜厚
  • ?有實(shí)時(shí)CD測量模型
  • ?有與TCV測量兼容的型號(hào)
  • ?提供表面粗糙度和帶隙測量模型
  • ?測量薄膜特性隨溫度的變化
  • ?在任何基材上測量石墨烯厚度

測量規(guī)格

  • 測量范圍:大1A?150μm
  • 世界上小的光學(xué)常數(shù)(折射率):0002
  • 膜厚測量分辨率:小03A?

 



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